
西藏GMP凈化車間溫濕度以及氣壓規定
發布時間:2017-08-15 瀏覽次數:3268
西藏GMP凈化車間內的溫濕度調節主要是根據工藝的要求來確定,在滿足工藝要求的條件下,還應當考慮西藏GMP凈化車間內作業人員的舒適度。隨著空氣潔凈度要求的提高,出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。
西藏GMP凈化車間的具體工藝對溫度的要求以后還要一一列舉,由于現代產品的加工精度越來越精細,所以對溫度波動范圍要求不是那么嚴格。例如在大規模集成電路生產的光刻曝光工藝中,作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。
直徑100um的硅片,溫度上升1度,就引起了0.24um線性膨脹,所以必須有±0.1度的恒溫,同時要求濕度值一般較低,因為人出汗以后,對產品將有污染,潤德凈化公司提示特別是怕鈉的半導體車間,這種車間溫度不宜超過25度,濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時,冷卻水管壁上會結露,如果發生在精密裝置或電路中,就會引起各種事故。
相對濕度在50%時易生銹。此外,濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉,但當相對濕度低于30%時,又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產最佳濕度范圍為35—45%。
西藏GMP凈化車間氣壓規定
對于大部分凈化車間,為了防止西藏GMP凈化車間氣遭受外界污染侵入,需要保持內部的壓力(靜壓)高于外部的壓力(靜壓)。壓力差的維持一般應符合以下原則:
1、西藏GMP凈化車間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。
2、潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。

壓力差的維持依靠新風量,這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以西藏GMP凈化車間壓力差的物理意義就是漏泄(或滲透)風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。
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